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新超純水設備EDI模塊調試注意事項 |
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1、電壓驅動力 對于每一種操作條件來說,都有一個****電壓。對于具體的操作條件,所加電壓可能太大,也可能太小。每種模塊都有一個典型的電壓范圍----優化****電壓應該在這個范圍之內。
這就不能將足夠的離子從淡水室遷移到濃水室中。而且可能不會使足夠的水發生裂解,從而使離子交換樹脂不能進行有效的再生。在拋光層可能不能充分捕捉和遷移類似二氧化硅這樣的雜質離子。 新超純水設備初始調試設置的電壓值過低,模塊中的離子交換樹脂將被離子填充,直到達到一個穩定狀態,這樣進入模塊的離子就比離開模塊的離子要多。其癥狀主要表現為濃水流中的離子比正常水平低。穩定狀態可能要8-24小時才能獲得----在此期間,產品水質將會逐漸下降。 2)如果電壓過高,就會有過多的水發生裂解,驅動力的效率下降。 其癥狀首先是在極水中產生多余的氣體,而后濃水中也會產生氣體。過高的電壓也會產生一種稱為“濃度反擴散”現象,在這種狀態下,離子將被迫從濃水擴散到鄰近的淡水室以保持電中性。 新超純水設備初始調試設置的電壓值升高,模塊中的離子交換樹脂就開始釋放離子,直至達到穩定狀態。在此期間,離開模塊的離子多于進入模塊的離子。其癥狀表現為濃水流電導率的增大。穩定狀態可能要8-24小時才能獲得----在此期間,產品水品質將會逐漸提高。 2、電流強度 EDI模塊較底部的電流強度非常高,這是由于進水中主要離子的遷移所致。濃水有一定高的電阻特性,因為那里的水基本上是電導率為2-20微西門子的RO水。 EDI模塊的上部,濃水流中充滿了它從工作床中收集的離子,在90%回收率時,濃水流的電導率是進水濃縮了10倍,因此電導率為20~200μS/cm之間。因此,淡水室此時將有更高的壓降(在 那里,已經剩下幾乎沒有了進水離子),在此區域,唯一的結果是水的裂解率更高,并且導致質子(H+)和氫氧根離子的遷移率更高。 這樣會有利于拋光床的存在和更好的去除CO2和硅,以及生產更高電阻率的產品水。 只有模塊處于平衡狀態而且沒有過高的電流強度時,產品水的質量才能得以優化。樹脂床的拋光部分的再生能力對獲得最高的電阻率至關重要。 3、離子平衡和pH值 在一個離子水平上必須維持在電中性狀態,對于陽離子就不可能擴散的比陰離子多。 即使在分子或原子級別也要保持電中性。這就不可能發生擴散的陽離子比陰離子多的情況。 正因為如此,離子平衡顯得至關重要。如果進水中的離子流形成了高遷移率的陽離子和低遷移率的陰離子,這時EDI的驅動力會自動調節遷移率最低的離子。此外,移動的質子(H+)和氫氧根離子(OH-)將在調節離子平衡的過程當中扮演重要的角色。如果進水流中的離子存在較大的不匹配,則在產品水流和濃水流之間將發生較大的pH值的變換。這時質量就無法優化。 PH值因此也極大的影響著產水品質。 1)較低的pH值:多余的H+將作為反離子擴散到進水流的陰離子中去。進水流中的陽離子將不能有效的去除。 2)PH值較高:質子不再扮演反陽離子的角色。二氧化碳帶電量(碳酸氫鹽)將會增加,遷移率也將增加。二氧化硅的帶電量和遷移率也將增加。 建議理想的操作條件是PH為7.0,最好有最少的CO2存在。 “離子前沿”區域的影響 如上所述,“離子前沿”(EDI模塊中“工作床”和“拋光床”的位置分界點)對產品水品質也非常重要。 對于生產電阻率最高、二氧化硅的含量最低的水,必須設定變量來****限度的擴大拋光床的深度。 ☆離子負荷必須是最小 ☆產品水流量應該是在給定范圍最高流量以下 ☆電壓應該是****工作電壓(不是太高或太低) ☆濃水流量應該是恰當的(如:90%回收率,以便能有效的去除膜表面的離子,這將消耗施加于淡水室端的電壓 ☆二氧化碳負荷應該最小 ☆PH值應該在7.0 為節約能源,如果對于應用而言較低品質的水足夠,則可以擴大工作床的深度并且限制拋光床的深度。這可以通過以下途徑獲得: ☆降低電壓 ☆降低濃水流量(較高的回收率)----這可以降低模塊的電阻。這也可以通過濃水的循環或加鹽來實現。 說明:這樣的風險就是在濃水室硬度的結垢。 更多資訊請關注超純水設備 |