純水設備‍要針對哪些物質進行清除

自來水中含有溶解性固體、溶解性氣體、溶解性有機物、顆粒物和微生物等污染物質。純水系統變得越來越復雜和龐大,系統需要檢測執行的信號繁多,對純水自動化系統的數據處理能力、安全性,可靠性的要求的提出了更高的要求,且需要及時地對系統的故障進行有效的預測、檢測、分離和修復。采用現代化的高可靠性的PLC冗余技術的控制系統能夠解決這一需求。純水設備‍要針對哪些物質進行清除?

1、微粒和溶解氧

液晶面板生產中,水粒子具有很大的危害,一旦接觸,由于分子間的相互作用,在硅晶片表面的粘附,并很難清除。當水蒸發時,在硅晶片上更難清除顆粒表面的殘留,從而破壞電路。粒徑微粒越大,電路缺陷就大,微粒越多,液晶面板的缺陷密度越高。面板在清洗過程中,若水中存在溶解氧,容易在硅片表面形成自然氧化膜,從而影響電路的性能及成品率。

2、有機物和硅

有機污染可增加硅片的局部氧化速度,生成氧化硅,使氧化層變得不均勻。水中的硅(SiO2)包括非可溶性硅和可溶性硅。純水中硅會造成磷硅霧,等離子刻蝕,形成顆粒污染而影響圖形缺陷,降低電子管及固體電路的質量,甚至造成廢品。

3、硼

純水的溫度影響行聚焦的深度及清晰度,需要控制在規定攝氏度。在半導體生產中,硼過量會影響電子、空穴濃度。因此需充分考慮硼的脫除和所用樹脂中硼的析出。純水的水質嚴重影響TFT-LCD面板的生產。為了滿足液晶面板的輕,薄,短,小,高密度發展,純水的質量要求將更為嚴格。

自來水中的雜質需要通過相應的純水設備‍去除,生成符合要求的純水,故從自來水到純水制備的生產系統稱之為整個純水制備系統。該系統采用現在前衛的RO混床工藝,其工藝流程分預處理系統、RO系統、制成系統、拋光系統多個子系統。